| “中国保护知识产权成果展览会”组委会第二次会议召开 |
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| 2005-11-07 11:04 文章来源：全国整规办 |
| 文章类型：原创 内容分类：新闻 |
11月4日，全国整规办主任张志刚、商务部副部长姜增伟出席 “中国保护知识产权成果展览会”组委会第二次会议。会上讨论通过了 “中国保护知识产权成果展览会”展览大纲、展览设计方案和展区划分方案。
张志刚主任指出，这次展览是我国第一次举办全面反映保护知识产权成果的大型展览，组展工作已经进入冲刺阶段，时间非常紧迫。 大家还要再加一把力，多下些功夫，精心组织，拿出高、精、尖的展示内容，务必把各部门在保知工作中取得的成绩全面、客观地反映出来。
张志刚主任还指出，下一步我们要着重做好以下工作：认真研究展览大纲，继续细化文字脚本；组织专门力量，抓紧落实展品征集工作;抓紧搞好企业推荐工作。
这次会议标志着“中国保护知识产权成果展览会”组展工作又向前推了一大步。
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